การรักษาพื้นผิวของอลูมิเนียมโลหะผสมตาย

March 27, 2024

อลูมิเนียมโลหะผสม diecast ฟอสเฟต

โดยใช้ SEM และ XRD วิธีการเช่นตัวเร่งความเร็วฟลูออไรด์เส้นโค้งเวลาที่มีศักยภาพการเปลี่ยนแปลงน้ำหนักฟิล์ม MN2+, NI2+, ZN2+, PO4 และ Fe2+และอิทธิพลของพวกเขาต่อกระบวนการฟอสเฟตอลูมิเนียมได้รับการศึกษาอย่างละเอียด การศึกษาแสดงให้เห็นว่า guanidine ไนเตรตมีลักษณะของความสามารถในการละลายน้ำที่ดีปริมาณต่ำและการก่อตัวของฟิล์มเร็วและเป็นตัวเร่งความเร็วที่มีประสิทธิภาพสำหรับอลูมิเนียมฟอสเฟต ฟลูออไรด์สามารถส่งเสริมการสร้างภาพยนตร์เพิ่มน้ำหนักฟิล์มและปรับแต่งธัญพืช Mn2+ และ Ni2+ สามารถปรับแต่งธัญพืชได้อย่างมีนัยสำคัญทำให้เครื่องแบบฟิล์มฟอสเฟตและหนาแน่นและปรับปรุงการปรากฏตัวของฟิล์มฟอสเฟต เมื่อความเข้มข้นของ Zn2+ อยู่ในระดับต่ำมันไม่สามารถสร้างภาพยนตร์หรือการสร้างฟิล์มที่ไม่ดีได้เนื่องจาก Zn2+ เพิ่มความเข้มข้นและเพิ่มน้ำหนักของฟิล์ม เนื้อหา PO4 มีผลกระทบมากขึ้นต่อฟิล์มฟอสเฟตเพิ่ม PO4 เพิ่มเนื้อหาของฟิล์มฟอสเฟต

กระบวนการขัดอิเล็กโทรไลต์อัลคาไลน์

ผ่านการวิจัยเกี่ยวกับระบบโซลูชันการขัดอัลคาไลน์ผลกระทบของสารยับยั้งการกัดกร่อนและสารความหนืดต่อผลการขัดเงาถูกนำมาเปรียบเทียบและระบบสารละลายอัลคาไลน์ที่มีผลการขัดที่ดีได้รับสำเร็จซึ่งลดอุณหภูมิการทำงาน และปรับปรุงเอฟเฟกต์การขัด ของสารเติมแต่ง ผลการทดลองแสดงให้เห็นว่าการเพิ่มสารเติมแต่งที่เหมาะสมให้กับโซลูชัน NaOH สามารถสร้างเอฟเฟกต์การขัดที่ดี การทดลองเชิงสำรวจยังพบว่าภายใต้เงื่อนไขบางประการการสะท้อนแสงของพื้นผิวของอลูมิเนียมสามารถเข้าถึง 90% หลังจากการขัดด้วยอิเล็กโทรไลติกแรงดันไฟฟ้าคงที่ด้วยน้ำตาลกลูโคส NaOH อย่างไรก็ตามเนื่องจากยังมีปัจจัยที่ไม่แน่นอนในการทดลองจำเป็นต้องมีการวิจัยเพิ่มเติม ความเป็นไปได้ของการขัดอลูมิเนียมโดยใช้ DC Pulse Electropolishing ภายใต้สภาวะอัลคาไลน์ได้รับการสำรวจ ผลการวิจัยพบว่าการขัดด้วยอิเล็กโทรไลต์พัลส์สามารถบรรลุผลการปรับระดับของการขัดด้วยอิเล็กโทรไลต์แรงดันไฟฟ้าคงที่ DC แต่ความเร็วในการปรับระดับจะช้าลง

อลูมิเนียมและอลูมิเนียม

ขึ้นอยู่กับกรดฟอสฟอริกและกรดซัลฟูริกมันถูกกำหนดให้พัฒนาเทคโนโลยีการขัดด้วยสารเคมีที่เป็นมิตรกับสิ่งแวดล้อมใหม่ด้วยการปล่อย NOx เป็นศูนย์เอาชนะข้อบกพร่องที่มีคุณภาพของเทคโนโลยีที่คล้ายกัน กุญแจสำคัญในเทคโนโลยีใหม่คือการเพิ่มสารประกอบพิเศษบางอย่างลงในฐานเพื่อแทนที่กรดไนตริก ดังนั้นจึงจำเป็นอย่างยิ่งที่จะต้องวิเคราะห์กระบวนการขัดทางเคมีของอลูมิเนียมด้วยกรดสามตัวโดยเฉพาะอย่างยิ่งบทบาทของกรดไนตริก ฟังก์ชั่นหลักของกรดไนตริกในการขัดด้วยอลูมิเนียมทางเคมีคือการยับยั้งการกัดกร่อนของหลุมและปรับปรุงความสว่างของการขัด เมื่อรวมกับการทดสอบการขัดด้วยสารเคมีของกรดฟอสฟอริกอย่างง่ายและกรดซัลฟูริกเชื่อว่าสารพิเศษที่เพิ่มเข้ามาในกรดฟอสฟอริกและกรดซัลฟิวริกควรจะสามารถยับยั้งการกัดกร่อนของหลุมและชะลอการกัดกร่อนที่ครอบคลุม ในเวลาเดียวกันมันจะต้องมีการปรับระดับและเอฟเฟกต์ที่ดีขึ้น

การรักษาความเข้มแข็งของพื้นผิวทางเคมีไฟฟ้าของแม่พิมพ์อลูมิเนียมและโลหะผสมของมัน

กระบวนการคุณสมบัติรูปร่างองค์ประกอบและโครงสร้างของการหล่อแบบอลูมิเนียมตายและโลหะผสมในความเป็นกลางและโลหะผสมและกระบวนการสร้างภาพยนตร์และกลไกของชั้นฟิล์มมีการหารือเบื้องต้น ผลการวิจัยกระบวนการแสดงให้เห็นว่าในระบบผสมที่เป็นกลางของ Na_2wo_4 ความเข้มข้นของตัวเร่งการขึ้นรูปฟิล์มจะถูกควบคุมเป็น 2.5 ~ 3.0g/L ความเข้มข้นของสารสังเคราะห์ฟิล์มคือ 1.5 ~ 3.0g/L และความเข้มข้นของ Na_2wo_4 คือ 0.5 ~ 0.8G/L ด้วยความหนาแน่นกระแสสูงสุดที่ 6 ~ 12a/dm ~ 2 และการกวนที่อ่อนแอสามารถรับชั้นฟิล์มอนินทรีย์ที่ไม่สม่ำเสมอและเป็นสีเทาได้ ความหนาของฟิล์มคือ 5 ~ 10μm, microhardness คือ 300 ~ 540hv และมีความต้านทานการกัดกร่อนที่ดีเยี่ยม ระบบที่เป็นกลางนี้มีความสามารถในการปรับตัวได้ดีกับโลหะผสมอลูมิเนียมและสามารถใช้กับโลหะผสมอลูมิเนียมหลายชุดเช่นอลูมิเนียมป้องกันสนิมและอลูมิเนียมปลอมแปลง